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產(chǎn)品中心
材料
銻化鎵GaSb單晶基片
發(fā)布時間 : 2020-06-17 瀏覽次數(shù) : 6441



GaSb單晶是的晶格常數(shù)與帶隙在0.8~4.3um光譜范圍內(nèi)的各種三元、四元和III-V族化合物固熔體的晶格常數(shù)匹配,所以 GaSb可以作為襯底材料適合用作制備某些紅外光纖傳輸?shù)募す馄骱吞綔y器,GaSb的晶格限制遷移率大于GaAs,使得它在制作微波器件方面具有潛在的應(yīng)用前景。

生長方法

液封提拉法LEC

晶體結(jié)構(gòu)

立方

晶格常數(shù)(nm)

0.609

晶向

、、±0.5o、或特殊方向

摻雜程度

輕摻、中摻、重?fù)?/span>

摻雜元素

不摻雜

摻Te

摻Te

摻Zn

導(dǎo)電類型

P

P-

N

N-

P+

帶隙(eV)

0.75

電阻率(Ω·cm)





遷移率(cm2/(v·s))






載流子密度(/cm3

1~2×1017

1~5×1016

2~6×1017

1~5×1016

1~5×1018

位錯密度(EPD)(/cm2

<5×104

尺寸

Φ3″×0.5、Φ2″×0.5,可按照客戶需求,定制特殊方向和尺寸

表面

單拋片、雙拋片或者切割片

厚度(um)

500,厚度公差+-10um,可定制

TTV (Total Thickness

Variation)


TIR (Total Indicated

Reading)


Bow


Warp


包裝

100級潔凈袋,1000級超凈室


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