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供應(yīng)磷化銦InP單晶基片 廠(chǎng)家品牌_深圳泛美金屬
發(fā)布時(shí)間 : 2020-06-17 瀏覽次數(shù) : 9174



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磷化銦InP單晶基片

InP單晶材料是最重要的化合物半導(dǎo)體材料之一,是光纖通信技術(shù)中的非常關(guān)鍵的材料,基于InP的激光二極管(LD)、發(fā)光二極管(LED)和光探測(cè)器等器件實(shí)現(xiàn)了光纖通信中信息的發(fā)射、傳播、放大、接受等功能。InP同時(shí)也非常適用于高頻器件,如高電子遷移率晶體管(HEMT)和異質(zhì)結(jié)雙極晶體管(HBT)等方面。由于InP本身具有的優(yōu)越特性,使其在光纖通信、微波、毫米波、抗輻射太陽(yáng)能電池、異質(zhì)結(jié)晶體管等諸多高技術(shù)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用.

生長(zhǎng)方法

液封提拉法LEC

晶體結(jié)構(gòu)

立方

晶格常數(shù)(nm)

0. 587

晶向

、、±0.5o、或特殊方向

摻雜程度

輕摻、中摻、重?fù)?/span>

摻雜元素

不摻雜

摻S

摻Zn

摻Te

導(dǎo)電類(lèi)型

N

N

P

N

帶隙(eV)

1.34

電阻率(Ω·cm)






遷移率(cm2/(v·s))

(3.5-4)×103

(2.0-2.4)×103

(1.3-1.6)×103

70-90

≥2000

載流子密度(/cm3

(0.4-2)×1016

(0.8-3)×1018

(4-6)×1018

(0.6-2)×1018

107-108

位錯(cuò)密度(EPD)(/cm2

<5×104

3×104

2×103

2×104

3×104

尺寸

Φ2″×0.5mm、Φ3″×0.5mm,可按照客戶(hù)需求,定制特殊方向和尺寸

表面

單拋片、雙拋片或切割片

厚度(um)

500,厚度公差+-10um,可定制

TTV (Total Thickness

Variation)


TIR (Total Indicated

Reading)


Bow


Warp


包裝

100級(jí)潔凈袋,1000級(jí)超凈室





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