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行業(yè)動(dòng)態(tài)
IBM碳納米管商用技術(shù)取得重大突破
發(fā)布時(shí)間 : 2015-10-08 瀏覽次數(shù) : 4087
北京時(shí)間10月4日早間消息,IBM的研究人員近期宣布,已經(jīng)攻克了碳納米管生產(chǎn)中的一個(gè)主要挑戰(zhàn),這將有助于生產(chǎn)出具有商業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力的碳納米管設(shè)備。

過(guò)去幾十年,半導(dǎo)體行業(yè)嘗試向單塊計(jì)算機(jī)芯片中集成更多硅晶體管,從而不斷加強(qiáng)芯片的性能。不過(guò),這一發(fā)展很快就將遭遇物理極限。目前,IBM的研究人員表示,憑借“重要的工程突破”,碳納米管晶體管替代硅晶體管未來(lái)將成為現(xiàn)實(shí)。

碳納米管有著良好的電特性和熱特性,從理論上來(lái)說(shuō)可以成為電路的基礎(chǔ),并帶來(lái)更快的速度和更好的能效。不過(guò),生產(chǎn)基于碳納米管晶體管的商用設(shè)備面臨著制造方面的多重挑戰(zhàn)。此次,IBM的研究人員解決了其中一項(xiàng)挑戰(zhàn):如何將碳納米管與金屬觸點(diǎn)進(jìn)行連接。

IBM的研究人員改變了1個(gè)碳納米管和2個(gè)金屬觸點(diǎn)之間的界面。在制造碳納米管晶體管時(shí),傳統(tǒng)做法是在碳納米管上進(jìn)行金屬觸點(diǎn)沉積。而目前,IBM的研究人員將金屬觸點(diǎn)置于碳納米管的底部,通過(guò)反應(yīng)形成不同的化合物。通過(guò)這種方式,IBM的研究人員證明,尺寸小于10納米的金屬觸點(diǎn)不會(huì)影響碳納米管的性能。(目前,硅芯片的頂級(jí)制造工藝為14納米。)

IBM納米管項(xiàng)目研究負(fù)責(zé)人威爾弗雷德·哈恩什(WilfriedHaensch)表示,新方法的成功意味著,向碳納米管晶體管的電流傳送將不再取決于金屬觸點(diǎn)的長(zhǎng)度。很明顯,這樣的晶體管能實(shí)現(xiàn)足夠小的尺寸。IBM計(jì)劃在2020年之前為碳納米管技術(shù)做好準(zhǔn)備,而這一突破是其中的重要一步。

不過(guò)哈恩什承認(rèn),碳納米管商用還存在其他技術(shù)難題,而此項(xiàng)工作僅僅解決了商用碳納米管面臨的三大挑戰(zhàn)之一。另一個(gè)挑戰(zhàn)在于,納米管有兩種形式:金屬和半導(dǎo)體。只有半導(dǎo)體形式的納米管才能被用于晶體管。因此,工程師需要更好地分離金屬納米管和半導(dǎo)體納米管。另一大挑戰(zhàn)在于開(kāi)發(fā)可靠的非光刻工藝,使數(shù)十億個(gè)納米管準(zhǔn)確排布在芯片上。
 
來(lái)源:新浪科技        

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